第二百九十九章 摩尔定律你听说过没有 (第2/2页)

光刻的原理，与冲洗照片是一样的。首先，要把电路图制作成底片，称为掩膜。光源通过掩膜照射在涂了光刻胶的芯片基材上。

光刻胶由树脂、感光剂、溶剂和添加剂组成，其中的感光剂在光线照射下会发生反应，使曝光区的光刻胶溶解，这就相当于把掩膜上的电路图案复制到了芯片基材上。

随后，再进行蚀刻、离子注入、封装等操作，一枚芯片就制作完成了。

光刻胶中感光剂的选择，与光源是密切相关的，这涉及到化合物在不同波长光线作用下的变化，机理十分复杂。

徐云是知道这些概念的。他原本就是物理系的学生，枫林研究所聘请他的老师前来参与这个项目，就是因为其中涉及到一些光学方面的问题。他在项目组里耳濡目染了这么久，对于这些问题自然是非常了解的。

听到高凡的问题，徐云也只能把心里那些杂念抛开，认真地答道：“我们现在研究的重点，就是G线光刻胶，这也是目前应用最广泛的。

“i线光刻胶这方面，毕主任在实验室会议上提过几次，让大家有时间做一些积累，不过目前条件还不成熟。再至于说KrF光刻胶，好像国外也刚刚开始研究吧？”

“你说i线光刻胶的条件不成熟，是指什么？”高凡问道。

徐云道：“不是我说的，而是毕主任说的。现在国内根本就没有使用i线光源的光刻机，国外也不多，研究i线光刻胶，是不是有些操之过急了？”

“我想跟你说的，就是这个。”高凡说，“对了，徐师兄，摩尔定律你听说过没有？”

“当然听说过。”徐云不忿地说，“不就是集成电路上的晶体管数量，每两年就增加一倍吗？我们好几个老师上课的时候都提过。”

“不愧是科大，思维很前卫。”高凡翘个大拇指，赞了一句，却换来了徐云一个白眼。

摩尔定律是1965年提出的，不过直到70年代中期才受到人们的重视。随着集成电路技术的迅猛发展，摩尔定律一再得到印证，一时间在西方科技界和产业界倍受推崇。

此时的中国，在全球半导体市场上完全是小透明，根本不具备评论半导体产业发展的资格，因此也就没什么人会关注和提及摩尔定律。

徐云说他有好几位老师上课时候都提过摩尔定律，高凡自然是要表示钦佩的。只是以他的身份，摆出这样一副嘴脸来夸奖中科大，徐云怎么能不对他表示一番鄙夷。

“既然你知道摩尔定律，那么你想想看，芯片制造技术将会以什么样的速度发展？G线光刻机肯定很快就会落伍，下一代i线光刻机会迅速普及。不出十年，市场主流就会是KrF光刻机。”高凡侃侃而谈。

徐云在心里默想了一下，点点头道：“你说得有理，不过，这也是国际市场的潮流吧？咱们国内现在连G线光刻机都没能掌握，你说的KrF，怎么也得是20年以后的事情了。”

“我们为什么就不能瞄准国际市场呢？”高凡看着徐云，“造光刻机，需要高精密机床，咱们一时造不出来。可是光刻胶的技术没多高的门槛，咱们为什么不能提前一步占领这个市场呢？”